M.Sc. Daniel Kool
Nanostrukturierung - Nanoanalytik - Photonische Materialien
Mitglied - Doktorand
Nanostrukturierung von Oberflächen durch Blockcopolymer-Lithographie (BCP)
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Publikationen
Aktuelle Publikationen
High‐Resolution Study of Changes in Morphology and Chemistry of Cylindrical PS‐ b ‐PMMA Block Copolymer Nanomasks during Mask Development
J. Bürger, H. Venugopal, D. Kool, T. de los Arcos, A. Gonzalez Orive, G. Grundmeier, K. Brassat, J.K.N. Lindner, Advanced Materials Interfaces 9 (2022).
Selective Area Growth of Cubic Gallium Nitride in Nanoscopic Silicon Dioxide Masks
F. Meier, M. Littmann, J. Bürger, T. Riedl, D. Kool, J. Lindner, D. Reuter, D.J. As, Physica Status Solidi (b) (2022).
High‐Resolution Study of Changes in Morphology and Chemistry of Cylindrical PS‐ b ‐PMMA Block Copolymer Nanomasks during Mask Development
J. Bürger, H. Venugopal, D. Kool, M.T. de los Arcos de Pedro, A. Gonzalez Orive, G. Grundmeier, K. Brassat, J. Lindner, Advanced Materials Interfaces 9 (2022).
Characterisation of the PS-PMMA Interfaces in Microphase Separated Block Copolymer Thin Films by Analytical (S)TEM
J. Bürger, V. Kunnathully, D. Kool, J. Lindner, K. Brassat, Nanomaterials 10 (2020).
Modification of block copolymer lithography masks by O2 plasma treatment: Insights from lift off experiments, nanopore etching and free membranes
K. Brassat, D. Kool, J. Lindner, To Be Submitted (n.d.).
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Weitere Informationen
Tätigkeit
Nanostrukturierung von Oberflächen durch Blockcopolymer-Lithographie (BCP) und anschließender Untersuchung und Charakterisierung der Strukturen durch verschiedene Analysemethoden (AFM, SEM, TEM, ...)