M.Sc. Daniel Kool

Nanostrukturierung - Nanoanalytik - Photonische Materialien

Mitglied - Doktorand

Nanostrukturierung von Oberflächen durch Blockcopolymer-Lithographie (BCP)

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Publikationen

Aktuelle Publikationen

High‐Resolution Study of Changes in Morphology and Chemistry of Cylindrical PS‐ <i>b</i> ‐PMMA Block Copolymer Nanomasks during Mask Development

J. Bürger, H. Venugopal, D. Kool, T. de los Arcos, A. Gonzalez Orive, G. Grundmeier, K. Brassat, J.K.N. Lindner, Advanced Materials Interfaces 9 (2022).

DOI

Selective Area Growth of Cubic Gallium Nitride in Nanoscopic Silicon Dioxide Masks

F. Meier, M. Littmann, J. Bürger, T. Riedl, D. Kool, J. Lindner, D. Reuter, D.J. As, Physica Status Solidi (b) (2022).

DOI

High‐Resolution Study of Changes in Morphology and Chemistry of Cylindrical PS‐ <i>b</i> ‐PMMA Block Copolymer Nanomasks during Mask Development

J. Bürger, H. Venugopal, D. Kool, M.T. de los Arcos de Pedro, A. Gonzalez Orive, G. Grundmeier, K. Brassat, J. Lindner, Advanced Materials Interfaces 9 (2022).

DOI

Characterisation of the PS-PMMA Interfaces in Microphase Separated Block Copolymer Thin Films by Analytical (S)TEM

J. Bürger, V. Kunnathully, D. Kool, J. Lindner, K. Brassat, Nanomaterials 10 (2020).

DOI

Modification of block copolymer lithography masks by O2 plasma treatment: Insights from lift off experiments, nanopore etching and free membranes

K. Brassat, D. Kool, J. Lindner, To Be Submitted (n.d.).


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Tätigkeit

Nanostrukturierung von Oberflächen durch Blockcopolymer-Lithographie (BCP) und anschließender Untersuchung und Charakterisierung der Strukturen durch verschiedene Analysemethoden (AFM, SEM, TEM, ...)